一氟甲烷
高纯一氟甲烷HFC-41气体是一种绿色、高效的蚀刻气，它可选择性地蚀刻硅化合物的薄膜，可用于半导体及电子产品的蚀刻制程中。
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高纯一氟甲烷HFC-41气体是一种绿色、高效的蚀刻气，它可选择性地蚀刻硅化合物的薄膜，可用于半导体及电子产品的蚀刻制程中。
| 化学名称 | 一氟甲烷 |
| 别名 | HFC-41 |
| CAS号 | 593-53-3 |
| ELINCS号 | 209-796-6 |
| 化学式 | CH3F |
| 结构式 | CH3-F |
| 分子量 | 34.03 |
| ODP（CFC-11 = 1） | 0 |
| GWP100（CO2 = 1） | 116 |
| 大气寿命（年） | 2.8 |
| 化学名称 | 一氟甲烷 |
| 沸点（℃） | -78.4 |
| 熔点（℃） | -142 |
| 液体密度（@20 ℃,g/cm3） | 0.61 |
| 蒸汽密度（空气=1） | 1.2 |
| 饱和蒸气压（@20 ℃，bar） | 33 |
| 临界温度（℃） | 44.5 |
| 纯度 | 99.9% | 99.99% |
| 钢瓶规格 | 阀门 | 充装量 |
| 10.2 L | CGA 350 / DISS 724 | 3 kg |
| 44 L | CGA 350 / DISS 724 | 10 kg |
| 47 L | CGA 350 / DISS 724 | 10 kg |
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